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@ -0,0 +1,250 @@
|
||||
{
|
||||
"header": {
|
||||
"version": 1,
|
||||
"type": "record"
|
||||
},
|
||||
"body": {
|
||||
"record1": {
|
||||
"<1>": "-2",
|
||||
"<2>": "-2",
|
||||
"<3>": "-1",
|
||||
"<4>": "-1",
|
||||
"<5>": "16777215",
|
||||
"<6>": {
|
||||
"<6,1>": {
|
||||
"<6,1,1>": "Tahoma",
|
||||
"<6,1,2>": "-11",
|
||||
"<6,1,3>": "400",
|
||||
"<6,1,4>": "0",
|
||||
"<6,1,5>": "0",
|
||||
"<6,1,6>": "5",
|
||||
"<6,1,7>": "0",
|
||||
"<6,1,8>": "39",
|
||||
"<6,1,9>": "0",
|
||||
"<6,1,10>": "0",
|
||||
"<6,1,11>": "0",
|
||||
"<6,1,12>": "0",
|
||||
"<6,1,13>": "11",
|
||||
"<6,1,14>": "2",
|
||||
"<6,1,15>": "0",
|
||||
"<6,1,16>": "21"
|
||||
}
|
||||
},
|
||||
"<7>": "",
|
||||
"<8>": {
|
||||
"<8,1>": {
|
||||
"<8,1,1>": "VER",
|
||||
"<8,1,2>": "Verified"
|
||||
},
|
||||
"<8,2>": {
|
||||
"<8,2,1>": "PREC",
|
||||
"<8,2,2>": "PreEpi Clean"
|
||||
},
|
||||
"<8,3>": {
|
||||
"<8,3,1>": "PREI",
|
||||
"<8,3,2>": "PreEpi Inspection"
|
||||
},
|
||||
"<8,4>": {
|
||||
"<8,4,1>": "PRES",
|
||||
"<8,4,2>": "PreEpi SurfScan"
|
||||
},
|
||||
"<8,5>": {
|
||||
"<8,5,1>": "LOAD",
|
||||
"<8,5,2>": "Reactor Load"
|
||||
},
|
||||
"<8,6>": {
|
||||
"<8,6,1>": "FWII",
|
||||
"<8,6,2>": "First Wafer Inspection"
|
||||
},
|
||||
"<8,7>": {
|
||||
"<8,7,1>": "FWIS",
|
||||
"<8,7,2>": "First Wafer SurfScan"
|
||||
},
|
||||
"<8,8>": {
|
||||
"<8,8,1>": "UNLOAD",
|
||||
"<8,8,2>": "Reactor Unload"
|
||||
},
|
||||
"<8,9>": {
|
||||
"<8,9,1>": "LWII",
|
||||
"<8,9,2>": "Last Wafer Inspection"
|
||||
},
|
||||
"<8,10>": {
|
||||
"<8,10,1>": "LWIS",
|
||||
"<8,10,2>": "LastWafer Surfscan"
|
||||
},
|
||||
"<8,11>": {
|
||||
"<8,11,1>": "PSTC",
|
||||
"<8,11,2>": "PostEpi Clean"
|
||||
},
|
||||
"<8,12>": {
|
||||
"<8,12,1>": "PSTI",
|
||||
"<8,12,2>": "PostEpi Inspection"
|
||||
},
|
||||
"<8,13>": {
|
||||
"<8,13,1>": "PSTS",
|
||||
"<8,13,2>": "PostEpi SurfScan"
|
||||
},
|
||||
"<8,14>": {
|
||||
"<8,14,1>": "QA",
|
||||
"<8,14,2>": "Final QA Verification"
|
||||
},
|
||||
"<8,15>": {
|
||||
"<8,15,1>": "MO_PSTC",
|
||||
"<8,15,2>": "WMOut Post Clean"
|
||||
},
|
||||
"<8,16>": {
|
||||
"<8,16,1>": "MO_PSTI",
|
||||
"<8,16,2>": "WMOut Post Inspection"
|
||||
},
|
||||
"<8,17>": {
|
||||
"<8,17,1>": "MO_PSTS",
|
||||
"<8,17,2>": "WMOut Post SurfScan"
|
||||
},
|
||||
"<8,18>": {
|
||||
"<8,18,1>": "MO_QA",
|
||||
"<8,18,2>": "WMOut Final QA Verification"
|
||||
},
|
||||
"<8,19>": {
|
||||
"<8,19,1>": "WFRI",
|
||||
"<8,19,2>": "Wafer Inspection*"
|
||||
},
|
||||
"<8,20>": {
|
||||
"<8,20,1>": "WFRS",
|
||||
"<8,20,2>": "Wafer Surfscan*"
|
||||
},
|
||||
"<8,21>": {
|
||||
"<8,21,1>": "G_RDS",
|
||||
"<8,21,2>": "Lot Start"
|
||||
},
|
||||
"<8,22>": {
|
||||
"<8,22,1>": "CTRL_PLAN",
|
||||
"<8,22,2>": "Start Control Plan"
|
||||
},
|
||||
"<8,23>": {
|
||||
"<8,23,1>": "ETCH",
|
||||
"<8,23,2>": "Etch"
|
||||
},
|
||||
"<8,24>": {
|
||||
"<8,24,1>": "GROWTH",
|
||||
"<8,24,2>": "Epi Deposition"
|
||||
},
|
||||
"<8,25>": {
|
||||
"<8,25,1>": "G_RATE",
|
||||
"<8,25,2>": "Growth Rate Review"
|
||||
},
|
||||
"<8,26>": {
|
||||
"<8,26,1>": "UV",
|
||||
"<8,26,2>": "UV Lamp"
|
||||
},
|
||||
"<8,27>": {
|
||||
"<8,27,1>": "WARP",
|
||||
"<8,27,2>": "Warp"
|
||||
},
|
||||
"<8,28>": {
|
||||
"<8,28,1>": "CAN",
|
||||
"<8,28,2>": "Candela Wafer Scan"
|
||||
},
|
||||
"<8,29>": {
|
||||
"<8,29,1>": "SPLIT",
|
||||
"<8,29,2>": "Characterization Split"
|
||||
},
|
||||
"<8,30>": {
|
||||
"<8,30,1>": "XRD",
|
||||
"<8,30,2>": "XRD"
|
||||
},
|
||||
"<8,31>": {
|
||||
"<8,31,1>": "AFM",
|
||||
"<8,31,2>": "AFM"
|
||||
},
|
||||
"<8,32>": {
|
||||
"<8,32,1>": "RPM",
|
||||
"<8,32,2>": "RPM"
|
||||
},
|
||||
"<8,33>": {
|
||||
"<8,33,1>": "PR",
|
||||
"<8,33,2>": "Photoreflectance"
|
||||
},
|
||||
"<8,34>": {
|
||||
"<8,34,1>": "LEH",
|
||||
"<8,34,2>": "LEH"
|
||||
},
|
||||
"<8,35>": {
|
||||
"<8,35,1>": "CV",
|
||||
"<8,35,2>": "CV-HG Probe"
|
||||
},
|
||||
"<8,36>": {
|
||||
"<8,36,1>": "HALL",
|
||||
"<8,36,2>": "Hall Coefficient Measur"
|
||||
},
|
||||
"<8,37>": {
|
||||
"<8,37,1>": "EBEAM",
|
||||
"<8,37,2>": "eBeam"
|
||||
},
|
||||
"<8,38>": {
|
||||
"<8,38,1>": "RTA",
|
||||
"<8,38,2>": "RTA"
|
||||
},
|
||||
"<8,39>": {
|
||||
"<8,39,1>": "BV",
|
||||
"<8,39,2>": "BV"
|
||||
},
|
||||
"<8,40>": {
|
||||
"<8,40,1>": "DISP",
|
||||
"<8,40,2>": "Wafer Disposition"
|
||||
},
|
||||
"<8,41>": {
|
||||
"<8,41,1>": "G_PACK",
|
||||
"<8,41,2>": "Package Wafers"
|
||||
},
|
||||
"<8,42>": {
|
||||
"<8,42,1>": "G_FQA",
|
||||
"<8,42,2>": "Final QA"
|
||||
}
|
||||
},
|
||||
"<9>": {
|
||||
"<9,1>": {
|
||||
"<9,1,1>": "1",
|
||||
"<9,1,2>": "10",
|
||||
"<9,1,3>": "C",
|
||||
"<9,1,4>": "C",
|
||||
"<9,1,5>": "",
|
||||
"<9,1,6>": "Sig Prof Key"
|
||||
},
|
||||
"<9,2>": {
|
||||
"<9,2,1>": "2",
|
||||
"<9,2,2>": "20",
|
||||
"<9,2,3>": "L",
|
||||
"<9,2,4>": "C",
|
||||
"<9,2,5>": "",
|
||||
"<9,2,6>": "Description"
|
||||
}
|
||||
},
|
||||
"<10>": "L",
|
||||
"<11>": "1",
|
||||
"<12>": "Signature Profile Keys",
|
||||
"<13>": "1",
|
||||
"<14>": "F",
|
||||
"<15>": "1",
|
||||
"<16>": "1",
|
||||
"<17>": "1",
|
||||
"<18>": "1",
|
||||
"<19>": "1",
|
||||
"<20>": "1",
|
||||
"<21>": "1",
|
||||
"<22>": "0",
|
||||
"<23>": "0",
|
||||
"<24>": "0",
|
||||
"<25>": "0",
|
||||
"<26>": "",
|
||||
"<27>": "",
|
||||
"<28>": "",
|
||||
"<29>": "0",
|
||||
"<30>": "1",
|
||||
"<31>": "0",
|
||||
"<32>": "0",
|
||||
"<33>": "1",
|
||||
"<34>": "16777215",
|
||||
"<35>": "16777215"
|
||||
}
|
||||
}
|
||||
}
|
||||
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